台积电近日在北美技术研讨会上宣布，公司正在研发CoWoS封装技术的下个版本。这款技术可以让系统级封装（SiP）尺寸增大两倍以上，实现120x120mm的超大封装，并且功耗可以达到千瓦级别。
根据官方描述，CoWoS封装技术的继任者所创建的硅中介层，其尺寸是光掩模（Photomask，也称Reticle，大约为858平方毫米）是3.3倍。这种技术可以将逻辑电路、8个HBM3/ HBM3E内存堆栈、I/O和其他芯粒（Chiplets）封装在一起，最高可以达到2831平方毫米，最大基板尺寸为80×80毫米。
据悉，AMD的Instinct MI300X和Nvidia的B200都使用了这种技术。
台积电计划于2026年投产下一代CoWoS_L封装技术。该技术的硅中介层尺寸可以达到光掩模的5.5倍。它可以将逻辑电路、12个HBM3/ HBM3E内存堆栈、I/O和其他芯粒（Chiplets）封装在一起，最高可以达到4719平方毫米。
此外，台积电还计划在2027年继续推进CoWoS封装技术，使硅中介层尺寸达到光掩模的8倍以上。这将提供6864平方毫米的空间，可以封装4个堆叠式集成系统芯片 (SoIC)，并与12个HBM4内存堆栈和额外的I/O芯片一起使用。
